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中商情報(bao)網訊：濺(jian)(jian)(jian)射(she)靶(ba)材是指通過磁控濺(jian)(jian)(jian)射(she)等鍍(du)膜系統在適(shi)當工(gong)藝(yi)條(tiao)件(jian)下濺(jian)(jian)(jian)射(she)沉積在基板上形成各種功能(neng)薄膜的濺(jian)(jian)(jian)射(she)源。濺(jian)(jian)(jian)射(she)靶(ba)材廣泛應(ying)用于(yu)半導(dao)體集成電路、平面顯示(shi)、太陽能(neng)電池、信息存儲、低輻射(she)玻璃等領(ling)域(yu)，是國家重點(dian)支持和(he)鼓(gu)勵發展(zhan)的行業。

一、濺射靶材行業概況

1.濺射靶材的定義

濺(jian)射(she)靶材是指通過磁控濺(jian)射(she)等鍍膜系(xi)統在適(shi)當工藝條件下(xia)濺(jian)射(she)沉(chen)積在基板上形(xing)成(cheng)各種功能薄膜的濺(jian)射(she)源。

濺(jian)射(she)靶材(cai)主(zhu)(zhu)要由(you)靶坯(pi)和背板(ban)構成(cheng)。靶坯(pi)系射(she)靶材(cai)中(zhong)的核心部分(fen)，是濺(jian)射(she)鍍膜(mo)過(guo)程中(zhong)高動能離(li)子束(shu)流轟擊(ji)的目標材(cai)料，靶坯(pi)被離(li)子撞擊(ji)后，表面的原子被濺(jian)射(she)出來并沉積(ji)于基(ji)板(ban)表面形成(cheng)薄膜(mo)。背板(ban)主(zhu)(zhu)要用(yong)于固定支(zhi)撐靶坯(pi)材(cai)料、導(dao)熱(re)、導(dao)電(dian)(dian)，一(yi)般由(you)金屬材(cai)料制成(cheng)，因濺(jian)射(she)靶材(cai)需(xu)安(an)裝在專用(yong)的濺(jian)射(she)鍍膜(mo)設備內(nei)完成(cheng)濺(jian)射(she)過(guo)程，設備內(nei)部為高電(dian)(dian)壓、高真空(kong)的工作(zuo)環境(jing),多(duo)數靶坯(pi)的材(cai)質較軟、脆性(xing)高、導(dao)電(dian)(dian)導(dao)熱(re)性(xing)較差等,不適合直接安(an)裝在設備內(nei)使用(yong)，因此(ci)需(xu)與背板(ban)綁定。

2.濺射靶材的分類

濺射靶(ba)材必須配套專(zhuan)用的濺射鍍膜(mo)設備方可進行濺射鍍膜(mo)。濺射靶(ba)材按形狀可分為(wei)平面靶(ba)和(he)旋轉(zhuan)靶(ba)；根(gen)據是否需要綁定背(bei)板(ban)或背(bei)管，可分為(wei)一體靶(ba)和(he)綁定靶(ba)。

資料來源：中商產業研(yan)究院整理(li)

3.濺射靶材的應用領域

作為(wei)各(ge)類(lei)薄(bo)膜(mo)工(gong)業化制(zhi)備(bei)的(de)關鍵材(cai)料，濺射(she)靶材(cai)廣泛應用于半(ban)導體集成電路、平面顯示、太陽能(neng)電池、信息存(cun)儲(chu)、低輻(fu)射(she)玻璃等(deng)領(ling)域,各(ge)應用領(ling)域對(dui)濺射(she)靶材(cai)的(de)制(zhi)備(bei)技術(shu)、產品性能(neng)等(deng)要求(qiu)各(ge)異。

資(zi)料(liao)來源：中商產業(ye)研(yan)究院(yuan)整理